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東京工科大学:日焼けによる肌乾燥のメカニズムを解明

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東京工科大学:日焼けによる肌乾燥のメカニズムを解明

2015-07-17 13:07
東京工科大学(東京都八王子市/学長:軽部征夫)応用生物学部の正木仁(まさきひとし)教授らの研究チームは、角層細胞に存在するカルボニルタンパク(注1)が、紫外線から活性酸素を生成することでさらに増加し、皮膚の乾燥を誘導するメカニズムを明らかにした(図1)。 本研究成果は、2015年6月に開催された第40回日本香粧品学会学術大会にて発表した。

※ 注1と図1に関しては関連記事のリンクから確認することが出来ます。

今後のスキンケア化粧品や日焼け止め化粧品の開発などへの応用が期待できますので、肌を気にする方にとってはうれしいニュースですね。
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